<![CDATA[siyouyen'职业博客]]> 2008-05-12T16-59-14 CST bokee.net Copyright (c) 2005, siyouyen 韩国WVS-5真空泵 2008-05-12T16-59-14 CST 2008-05-12T16-59-14 CST 2008-09-07T00-51-56Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775372 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 真空泵

WVS系列乾式真空幫浦
 

 

 

 

 

大小：

WVS系列為單段,乾式碳片真空幫浦(Single stage Rotary Vane Vacuum Pump),直結傳動,体積小,重量輕,安靜,排氣無油煙,標準附件包含: * 進口過濾器 * 出口過濾器 * 調壓閥 * 真空錶 所有規格幫浦均可現貨供應

產品說明：

1)WVS-3 技術資料

* 排氣量: 235/280 Liter/Min, 50/60Hz
* 真空度: - 650 mmHg (Max)
* 馬達: 0.4Kw,220V,1Ph,50/60Hz
* 大小: L x W x H = 500 x 205 x 255 mm
* 重量: 21 Kg

2)WVS-5 技術資料

* 排氣量: 405/480 Liter/Min, 50/60Hz
* 真空度: - 650 mmHg (Max)
* 馬達: 0.75Kw,220V,3Ph,50/60Hz
* 大小: L x W x H = 560 x 205 x 265 mm
* 重量: 33 Kg

3)WVS-6 技術資料

* 排氣量: 575/685 Liter/Min, 50/60Hz
* 真空度: - 650 mmHg (Max)
* 馬達: 1.5 Kw,220V,3Ph,50/60Hz
* 大小: L x W x H = 650 x 270 x 310 mm
* 重量: 44 Kg

4)WVS-8 技術資料

* 排氣量: 935/1115 Liter/Min, 50/60Hz
* 真空度: - 650 mmHg (Max)
* 馬達: 1.5Kw,220V,3Ph,50/60Hz
* 大小: L x W x H = 720 x 300 x 360 mm
* 重量: 73 Kg

5)WVS-9 技術資料

* 排氣量: 1130/1350 Liter/Min, 50/60Hz
* 真空度: - 650 mmHg (Max)
* 馬達: 2.2Kw,220V,3Ph,50/60Hz
* 大小: L x W x H = 764 x 354 x 375 mm
* 重量: 97 Kg


特點:

* 單段碳片乾式真空幫浦
* 氣冷式,不須水冷卻
* 体機小,重量輕,安裝容易
* 內附小型進口過濾器
* TEFC 馬達

]]> 实验室用小型真空镀膜机 2008-05-12T16-57-53 CST 2008-05-12T16-57-53 CST 2008-09-07T00-51-56Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775363 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 真空泵 小型高頻濺射裝置

RFS-200
靶材尺寸 φ80 厚度1-5mm
真空室 200mm(長)×250mm(寬)×150mm(高）
SUS・304制 前面開門
基板電極 φ80 Cu制 加熱。冷卻式
靶電極 φ80 Cu制 冷卻
擋板 φ95 厚度1mm 手動操作
RF電源 200W×13.56MHz 帶與RF電源匹配的電路
基板加熱電源 管加熱器加熱自動溫調 MAX350℃
溫度指示計 (數字型)
排氣系統 F-250油擴散泵（240L/sec）
油旋片真空泵G-100D（100L/min）
主閥2。5英寸蝶閥
水冷閥 三向切換閥 皮拉尼真空計(數字型２點式)
本體尺寸
 800mm(長)×630mm(寬)×1450mm(高）
重量 200kg
電力 100V　1φ　1.3kVA
RF電力 100V　1φ　0.5kVA
冷卻水用量 0.2MPa　5L/min　25℃以下
選購件 液氨冷阱、磁控管、電離真空計、追加氣體導入、排氣口過濾器、基板加熱650C

性能

極限壓力 6.7 X 10-4
排氣時間 10-3Pa/5min
基板加熱溫度 MAX350℃
濺射壓力 10-1Pa Ar氣體
靶材 導體
半導體
絕緣體		 Al、Cu、Au、Cr 等
Si、Ge、Se 等
SiO2、Al2O3 等　


*可選擇渦輪分子泵、渦選型幹泵 情聞訊。


小型磁控管濺射裝置

SCOTT-C1

基板尺寸 數量 φ4英寸 （φ100mm）× t ＝1mm、1個
有效成膜範圍 φ50mm
RF電源 Max 300W（40〜300W可變）
成膜速度 SiO2成膜時、大于30nm/min
膜厚分布 SiO2成膜時、50mm+-10%以內
真空室極限壓力 6.6 X 10-4
排氣時間 5分鍾內從大氣壓抽至6。6 X 10-3Pa
基板加熱溫度 Max 350℃(水冷)
基板電極間距離 60mm
外形尺寸
 1120mm(長)×704mm(寬)×1262mm(高）
裝置重量 約500kg
消耗電量 1φ100V（50/60Hz）3.0kVA
消耗水量 約8L/min(水溫:25C以下、水壓:200Kpa)
蝕刻分布 用酸化膜磈片時、70mm+-10%以內
選購件 追加氣體導入、質量流量控制器、基板加熱600C (水冷)、DC電源


    SCOTT-C3

基板尺寸 數量 φ2英寸 （φ50.8mm）× t ＝1mm、1個
有效成膜範圍 φ25mm
RF電源 Max 300W（40〜300W可變）
成膜速度 SiO2成膜時、大于30nm/min
膜厚分布 SiO2成膜時、25mm+-10%以內
真空室極限壓力 6.6 X 10-4
排氣時間 5分鍾內從大氣壓抽至6。6 X 10-3Pa
基板加熱溫度 Max 350℃(基板水冷機構:無)
基板動作 手動調節 3點指標旋轉 (約300度角)
基板電極間距離 50mm〜90mm（可變：半固定）
外形尺寸
 1100mm(長)×700mm(寬)×1070mm(高）
裝置重量 約400kg
消耗電量 1φ100V（50/60Hz）3.0kVA
消耗水量 2L/min(水溫:25C以下、水壓:200Kpa)
選購件 刻蝕機構 (洗淨)、追加氣體導入、質量流量控制器、
基板加熱350C (水冷) 600C無水冷、DC電源

超小型離子濺射裝置

VPS-020
標准靶材 φ49 Au 1個 (鍍膜用)
φ49 Al 1個1個 (刻蝕用)
試料台 φ70(高度調節範圍15mm、20mm、60mm)
真空槽 φ120 (深度120mm) 不鏽鋼制
油旋片泵 G-20DA型（20L/min）
高壓電源 1kV/0〜20mA(帶電流計、內置安全電路)
鍍膜方式 AC/DC
刻蝕方式 AC/DC
時間 0〜15min、連續可變
氣體調節機構 針閥
電源 100V１φ0.4kVA
重量 8.5kg
外形尺寸 160mm(長)×365mm(奥行)×317mm(高)
選購件 1．靶材 Pt-Pd、Ag 其他
2．油霧過濾器(OMT-050A)
*請根據用途挑選選購件

VPS-050
標准靶材 φ109 Au 1個 (鍍膜用)
φ109 Al 1個1個 (刻蝕用)
試料台 φ100(高度調節範圍15mm、20mm、60mm)
真空槽 φ240 (深度120mm) 不鏽鋼制
油旋片泵 G-100D型（100L/min）　選購件
高壓電源 1kV/0〜20mA(帶電流計、內置安全電路)
鍍膜方式 AC/DC
刻蝕方式 AC/DC
時間 0〜15min、連續可變
氣體調節機構 針閥
電源 100V１φ0.5kVA
重量 20kg
外形尺寸 282mm(長)×485mm(奥行)×440mm(高)
選購件 1．靶材 AU、 Pt-Pd、Ag 其他
2．油霧過濾器(OMT-050A)
*請根據用途挑選選購件

]]> kw-5匀胶机 2008-05-12T16-56-38 CST 2008-05-12T16-56-38 CST 2008-09-07T00-51-57Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775356 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 匀胶机 KW-5型 匀胶机 (spin coater)

1,特点是双转速匀胶机,两档转速及匀胶时间分别连续节,在启动后先低速运转,经几秒钟后转换到高速运转.  
Ⅰ档  调速范围：500 -1000转/分   Ⅰ档  匀胶时间：2-18秒  
Ⅱ档  调速范围：1000-5000转/分  Ⅱ档  匀胶时间：3-60秒 

2,进口转子,稳定性能更好,转速调节以数字显示为准.
3,LED数字显示,转速稳定度：±1%  ,胶的均匀性：±3%  . 
4,三相电源：380V 
5,电机功率：180W   
6,适用：Φ100-Φ200mm（4”~~8”）硅片及其它材料等匀胶.  
7,真空泵抽气速率   ≥1200升/分   
8,设备尺寸：500×500×460   mm   
匀胶机 (KW-5)

 

产品用途： KW型匀胶机适合半导体大型晶圆硅片,芯片,晶片,基片,液晶片等工艺,制版的表面涂覆.  

]]> KW-4A匀胶机 2008-05-12T16-55-13 CST 2008-05-12T16-55-13 CST 2008-09-07T00-51-58Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775347 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 匀胶机 供应台式匀胶机    中国半导体行业协会推荐产品

 

 
匀胶机
更大的图片

匀胶机(英文名：Spin   Coater)适合半导体硅片的匀胶镀膜 
详细介绍： 匀胶机(英文名：Spin   Coater)   
行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机    

品牌   
SIYOUYEN


型号   
KW-4A型

产品概述:  
KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.  
匀胶机稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶厚度的一致性和均匀性,这正是KW型均匀胶机的特点.  
该机在这方面采取了许多措施:  
(一)该设备采用美国先进技术,采用进口配件.  
(二)定子和转子分开供电.定子用稳定电源供励磁电流,转子用开关电源调速,它比可用控硅调速优越得多,转速在1000~8000转/分范围内非常稳定.  
(三)本匀胶机有两个转速.在启动之后,先以低速运转,使胶摊开,然后自动变到高速运转.两种转速及相应的时间分别可调.  
(四)本匀胶机测速采用光电的办法,在光电测速盘的边上有三个缺口,(反射带和吸收带)分布于盘的周围，盘边的下面安装有光电开关,光源照到光电经反射到接收器,产生光电脉冲,测速盘旋转一周,产生三个脉冲.闸门由秒脉冲电路产生,周期为两秒.当马达旋转时,如果计时器在2秒内计的得数是n,则每分钟应该转了n/(2x3)=n/6转,每分钟旋转(n/6)x60=10n转.故计数器就是每分钟转速,只不过差一个数量级.  
(五)"吸片"采用电磁阀控制气路,这样适合流水线的工艺,一个气泵可同时带几个匀胶机工作,提高了效率.  
(六)匀胶机的定时功能由时基电路556来完成,把556按单稳形式连接,改变RC常数,就可以改变两个匀胶时间. 
(七)智能型调节匀胶时间,时间分别控制在1~18秒和3秒~1分钟. 
(八)在安装结构上,采取了减振措施,保证了在运转时噪音很低,保证涂覆表面均匀,保证通过调节转速调节涂覆厚度. 
(九)匀胶机配真空泵使用. 

 性能指标：  
1,特点是双转速匀胶机,两档转速及匀胶时间分别连续节,在启动后先低速运转,经几秒钟后转换到高速运转.  
Ⅰ档  调速范围：500-2500转/分   Ⅰ档  匀胶时间：2-18秒  
Ⅱ档  调速范围：1000-8000转/分  Ⅱ档  匀胶时间：3-60秒 
2,LED数字显示,转速稳定度：±1%  ,胶的均匀性：±3%  . 
3,电源电压：220V/   50Hz   
4,电机功率：40W   
5,适用：Φ5-Φ100mm硅片及其它材料等匀胶.  
6,真空泵抽气速率   ≥60升/分   
7,体积小,重量轻,操作简便 
仪器尺寸：210×220×160   mm   

]]> 数显电热板 2008-05-12T16-53-42 CST 2008-05-12T16-53-42 CST 2008-09-07T00-51-58Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775344 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 数显电热类 微控数显电热板

EH系列、EG系列微控、数显电热板是专为实验室设计的电热产品，是样品加热消解、煮沸、蒸酸等处理的好帮手，可以满足物理、化学、生物、环保、制药、食品、饮品、教学、科研等不同行业化学实验室对试剂加热的需要。

    多个系列、众多型号的产品群，给客户最大的选择空间!

产品分类 配蒸酸架
产品特点( EH 系列)
  • 加热面积大，加热均匀，升温快
  • 采用微处理芯片精确控制温度，持续加热，抗电磁干扰
  • 特殊防腐材料，耐腐蚀，使用寿命长
  • 设计美观大方
EH 20A EH 20A Plus EH 20B EH 20D
       
 
EH 35A EH 35A Plus EH 35B  
产品规格及技术指标
型 号 功 率 类 别 温控范围 工作尺寸 控制方式 温度稳定
EH -20A 2000W 防腐型

40 -200 ℃

300 × 400mm

位式控制（无数显） ± 5 ℃
EH -20A Plus 2000W

防腐型

40 -200 ℃

300 × 400mm 位式控制（带数显） ± 5 ℃
EH-20B 2000W

防腐型

40 -200 ℃ 300 × 400mm PID （带数显） ± 1 ℃
EH-20D 2000W 防腐型

40 -200 ℃

300 × 400mm PID （带数显） ± 0.2 ℃
EH -35A 2000W 高温型 40 -350 ℃ 300 × 400mm 位式控制（无数显） ± 5 ℃
EH -35A plus 2000W

高温型

40 -350 ℃

300 × 400mm

位式控制（数显） ± 5 ℃

EH-35B

2000W

高温型

40 -350 ℃

300 × 400mm PID （数显） ± 2 ℃
]]> PV阻抗分析仪 2008-05-12T16-47-08 CST 2008-05-12T16-47-08 CST 2008-09-07T00-51-58Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775320 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 阻抗分析仪

      压电陶瓷、超声清洗机、超声焊接机、超声传感器、水声传感器

检测仪器PV50A,PV70A,PV70B

――――阻抗分析仪

技术参数：

规格

性能

PV50A

PV70A

PV70B

频率范围

100Hz～300KHz

1KHz～700KHz

5KHz～700KHz

测量指标

所有参数

除电容外

测量精度

0.5％

1%

测量速度

50～60秒/件

5～8秒/件

2～4秒/件

频率精度

±50ppm

相位分辨率

0.15度

环境温度

10～40摄氏度

阻抗范围

1Ω～1MΩ

频率步进

0.1Hz～任意

适用场合

水声领域（频率较低、测速较慢）

功率超声

功率超声（速度较快，但不测电容）

 


特点：                                                          

阻抗分析仪可以运用于很多需要用到超声波的行业：超声塑焊机、超声清洗机、超声换能器生产、超声电加工、水声、超声传感器、压电陶瓷生产、倒车雷达、各类医用超声、超声洁牙、超声变幅杆生产、超声焊头设计、超声搅拌、超声乳化等等所有需要用到超声波的行业。

 阻抗分析仪主要适用对象为各类超声器件阻抗特性的测量，包括：压电陶瓷、换能器、超声清洗机、超声塑焊机、水声、磁致伸缩材料、超声粉碎机、超声雾化、超声洁牙、倒车雷达、超声测距、超声乳化、超声除垢、超声马达等等所有使用超声的设备。

]]> 　供应实验室用URE-2000/17型光刻机 2008-05-12T16-10-26 CST 2008-05-12T16-10-26 CST 2008-09-07T00-51-58Z tag:siyouyen.blogchina.com,2005://1775143 siyouyen http://www.bokee.net/blogmodule/weblogcomment_index/siyouyen.html 光刻系列 URE-2000/17型光刻机

1.技术特征

l        采用多反射镜实现均匀照明；

l        采用球气浮找平，调平精度高；

l        高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程，并提供USB输出；既满足高精度对准，又可用于检测曝光结果，且曝光结果和方便存储；

l        曝光波长采用纯净365nm,冷光照明（曝光面能量5mW/cm ，温度小于35度）；

l        手动上下版、样片，手动调平；手动分离间隙。

l        快门可以单独开启，也可以数字设定自动倒计时曝光（设定范围0.1s-9999s）；

l        采用200W进口（德国）直流汞灯，可调节光的能量密度；

l        设备外形美观精制，性能非常可靠；

 

1．技术参数

l       曝光面积：f100mm

l       分辨力：1.7mm（胶厚2 mm的正胶）

l       对准精度：±1mm

l       掩模样片整体运动范围：X：6mm;Y:6mm

l       掩模尺寸：2.5寸、3寸、4寸、5寸

l       样片尺寸：直径f15mm-- f100mm

              厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)

l       照明均匀性： ±5%（f100mm 范围）

l       掩模相对于样片运动行程：

   X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±6度

l       汞灯功率：200W（直流）

l       曝光波长：365nm

l       曝光能量密度：6mW/cm (420nm以上波长小于0.2mW/cm )

l